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日本otsuka大塚非破壞性基材鍍層測厚儀 特點： 手持式，便于攜帶至現(xiàn)場 測量精度達到0.1μm單位 適用于具有形狀的樣品，可進行非破壞性測量 可測量不同基材材質(zhì)上的鍍膜

日本densoku電測小型熒光X射線式膜厚計 采用雙層過濾器 除數(shù)字濾波器外，還采用了Co和Ni兩種機械濾波器，因此即使面對原子序數(shù)相鄰的基材與鍍層組合（如銅基材上的鎳鍍層、鋅基材上的銅鍍層），也能實現(xiàn)高精度測量。 內(nèi)置5種準直器 標準內(nèi)置0.1、0.2、0.5、1.0、2.0毫米直徑的五種準直器。 另有可選配件0.05mmφ及0.05mmφ×0.5mmφ的準直儀供選擇。 自診斷功能的維護

日本densoku電測絕緣物金屬薄膜測厚儀 可快速測量絕緣物上的金屬薄膜（印刷電路板的銅箔、電鍍層等），雙面板和多層板的背面或內(nèi)層也不受影響?？蛇x擇兩種測量范圍，能夠測量2-120μm的金屬薄膜。

日本densoku電測渦電流式金屬涂層測厚儀 測量基材與涂層間導電率差異較大的材料，如非磁性金屬（鋁、銅、黃銅）上的非導電涂層、鋼材上的各種電鍍層，以及非金屬基材上的銅鍍層、銀鍍層等。實現(xiàn)高穩(wěn)定、高精度的膜厚測量。

日本densoku電測無損鋅鉻金屬電鍍層測厚儀 測量基材與涂層間導電率差異較大的材料，如非磁性金屬（鋁、銅、黃銅）上的非導電涂層、鋼材上的各種電鍍層，以及非金屬基材上的銅鍍層、銀鍍層等。實現(xiàn)高穩(wěn)定、高精度的膜厚測量。

日本densoku電測渦電流式涂層鍍層膜厚儀 測量基材與涂層間導電率差異較大的材料，如非磁性金屬（鋁、銅、黃銅）上的非導電涂層、鋼材上的各種電鍍層，以及非金屬基材上的銅鍍層、銀鍍層等。實現(xiàn)高穩(wěn)定、高精度的膜厚測量。

日本densoku電測鍍銀銅 鍍錫銅鍍層測厚儀 可記錄最多50個測量通道。 可以設(shè)置最多5層的多層皮膜的測定條件。 可以使用雙脈沖和電位差測定來測量比較電極（歐普申）和電位差，從而測定滴定曲線的電位差。 可以區(qū)分“錫/銅”測定中的純錫層和合金層進行測定。 可以自動顯示與皮膜和基材組合使用的電解液的種類。

日本densoku電測鉻鎳銅錫等鍍層測厚儀 可記錄最多50個測量通道。 可以設(shè)置最多5層的多層皮膜的測定條件。 可以使用雙脈沖和電位差測定來測量比較電極（歐普申）和電位差，從而測定滴定曲線的電位差。 可以區(qū)分“錫/銅”測定中的純錫層和合金層進行測定。 可以自動顯示與皮膜和基材組合使用的電解液的種類。 電解式膜厚計 GCT-311