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PRODUCT CLASSIFICATION
產(chǎn)品分類(lèi)產(chǎn)品展示/ Product display
日本full-tech薄膜沉積超小型實(shí)驗(yàn)用CVD裝置 CVD（化學(xué)氣相沉積）是一種薄膜制備技術(shù)，通過(guò)將氣態(tài)前驅(qū)物引入加熱的基板表面，使其發(fā)生化學(xué)反應(yīng)并沉積形成固態(tài)薄膜。
產(chǎn)品型號(hào)：FT-1200CVD廠商性質(zhì)：經(jīng)銷(xiāo)商更新時(shí)間：2026-02-09訪 問(wèn) 量：42
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日本full-tech薄膜沉積超小型實(shí)驗(yàn)用CVD裝置
日本full-tech薄膜沉積超小型實(shí)驗(yàn)用CVD裝置
| 參數(shù) | 規(guī)格 |
|---|---|
| 型號(hào) | FT-1200CVD |
| 溫度 | 1,200℃ |
| 常用溫度范圍 | 室溫～1,100℃ |
| 使用爐芯管 | 外徑34mm × 800mm 高純度石英管 |
| 均熱區(qū)長(zhǎng)度 | 150mm |
| 溫度設(shè)定精度 | ±1℃以?xún)?nèi) |
| 加熱元件 | Kanthal AF（鐵鉻鋁合金，耐高溫抗氧化） |
| 加熱驅(qū)動(dòng) | 數(shù)字晶閘管（相位角控制） |
| 薄膜類(lèi)型 | 應(yīng)用示例 |
|---|---|
| 碳納米管（CNT） | 復(fù)合材料增強(qiáng)、導(dǎo)電材料 |
| 石墨烯 | 電子器件、傳感器 |
| 氮化硅（Si?N?） | 半導(dǎo)體鈍化層、耐磨涂層 |
| 氧化硅（SiO?） | 絕緣層、光學(xué)涂層 |
| 金屬薄膜（鎢、鈦等） | 集成電路互連、阻擋層 |
| 特點(diǎn) | 優(yōu)勢(shì) |
|---|---|
| 超小型設(shè)計(jì) | 適合實(shí)驗(yàn)室桌面使用，節(jié)省空間 |
| 高純度石英管 | 防止污染，保證薄膜純度 |
| 150mm均熱區(qū) | 確保基板溫度均勻，薄膜質(zhì)量一致 |
| ±1℃精度 | 精確控制反應(yīng)溫度，提高工藝重復(fù)性 |
| 模塊化選配件 | 根據(jù)實(shí)驗(yàn)需求靈活配置 |
| 用戶(hù)類(lèi)型 | 應(yīng)用場(chǎng)景 |
|---|---|
| 大學(xué)研究室 | 新材料開(kāi)發(fā)、納米技術(shù)研究 |
| 半導(dǎo)體企業(yè)研發(fā) | 工藝驗(yàn)證、新器件開(kāi)發(fā) |
| 材料科學(xué)研究所 | 薄膜材料性能研究 |
| 初創(chuàng)企業(yè) | 小批量樣品制備、技術(shù)驗(yàn)證 |
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