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Taiseigiken半導體小型高氣密性氣體加熱器

Taiseigiken半導體小型高氣密性氣體加熱器
HOT-N2 UNIT 通過“加熱氮氣"這一簡單動作,即可抑制排氣中的反應生成物(微粉末),縮短 cryo 再生時間,并加速真空干燥,顯著減少維護工時,提升產能。

  • 產品型號:HOT-N2 UNIT
  • 廠商性質:經銷商
  • 更新時間:2026-01-05
  • 訪  問  量:114
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Taiseigiken半導體小型高氣密性氣體加熱器

Taiseigiken半導體小型高氣密性氣體加熱器

HOT-N2 UNIT 通過“加熱氮氣"這一簡單動作,即可抑制排氣中的反應生成物(微粉末),縮短 cryo 再生時間,并加速真空干燥,顯著減少維護工時,提升產能。
照片左/HNH-1
照片右/HNH-C-SI-1

HOT-N2 UNIT 是什么?

對真空腔體、真空泵及排氣管道內的 N? 進行“潔凈?極速?高溫"注入的在線加熱裝置。

渦流注入機是什么?

獨特接頭內部采用渦流結構,讓 HOT-N? 的高溫層在管道內保持更長時間,提高抑制效率。

系統(tǒng)配置 ①(半導體 / 液晶工廠 微粉抑制)

用途
  • 防止蝕刻、CVD、ALD、離子注入等排氣管道因反應生成物而堵塞
  • 抑制粉體 Trap(TraPac)下游管道的粉末堆積
  • 避免干式真空泵轉子等部位因生成物堆積而卡死
  • 阻止 TMP 出口管路因反應生成物堵塞
特點
  • cartridge 加熱器方案,壽命更長
  • 超高氣密 ≤1×10?1? Pa·m2/sec
  • 小型化設計,狹窄空間也能輕松安裝

系統(tǒng)配置 ②(Cryo 再生時間縮短)

用途
  • 大幅縮短 cryo 泵的再生周期
特點
  • cryo 泵專用加熱器,小巧輕便
  • 安裝簡單,支持特殊規(guī)格定制
  • 已做安全隔熱處理,可安心使用


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