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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • UV253V8/UV253V8R日本Filgen紫外臭氧有機(jī)溶劑超聲波清洗儀

    日本Filgen紫外臭氧有機(jī)溶劑超聲波清洗儀 UV253V8/UV253V8R ●單獨使用超聲波清洗無法去除的基材上的有機(jī)污染物可以輕松去除。 ●濕法清洗中使用的有機(jī)溶劑也被去除。 ●可以在不損壞基材表面的情況下去除有機(jī)污染物。 ●LB膜的堆積變得容易。(累計率將大幅提升。) ●一種可在常壓下使用且不需要真空裝置的干洗設(shè)備。

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    2025-05-06

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  • OPC60A日本進(jìn)口filgen等離子鍍膜機(jī)EVO涂層多功能

    日本進(jìn)口filgen等離子鍍膜機(jī)EVO涂層多功能 OPC60A 這是一種以SEM樣品為主的導(dǎo)電性薄膜的制造裝置,采用“利用直流輝光放電的負(fù)輝光相區(qū)域的等離子膜制造方法”。

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    2025-05-06

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  • OPC60A/OPC80T日本Filgen等離子鍍膜機(jī)用于導(dǎo)電性薄膜裝置

    日本Filgen等離子鍍膜機(jī)用于導(dǎo)電性薄膜裝置 OPC60A/OPC80T 電子顯微鏡試樣用導(dǎo)電性薄膜制作裝置等離子體涂布機(jī) ◆膜專用型(OPC60A) ◆膜/等離子體聚合膜雙用型(OPC80T) ◆導(dǎo)電性超薄膜制膜機(jī)構(gòu) ◆親水化處理機(jī)構(gòu) ◆深型試樣機(jī)構(gòu) ◆可選消耗品

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    2025-05-06

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  • PF-F系列日本DIC酸、堿、有機(jī)溶劑等液體脫氣裝置

    日本DIC酸、堿、有機(jī)溶劑等液體脫氣裝置 PF-F系列 脫氣膜采用PTFE,接觸液體部全部為氟樹脂制的脫氣模組??蛇M(jìn)行酸、堿、有機(jī)溶劑等液體的脫氣。 可用于在半導(dǎo)體、LCD制造過程中使用液體的脫氣、除泡(各種抗蝕劑、稀釋劑、化學(xué)制劑等) 溶劑型噴墨墨水的脫氣

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    2025-05-06

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  • PF-F系列日本DIC用于半導(dǎo)體/化學(xué)制劑等脫氣裝置

    日本DIC用于半導(dǎo)體/化學(xué)制劑等脫氣裝置 PF-F系列 脫氣膜采用PTFE,接觸液體部全部為氟樹脂制的脫氣模組??蛇M(jìn)行酸、堿、有機(jī)溶劑等液體的脫氣。 可用于在半導(dǎo)體、LCD制造過程中使用液體的脫氣、除泡(各種抗蝕劑、稀釋劑、化學(xué)制劑等) 溶劑型噴墨墨水的脫氣

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  • Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物

    Xevios多用途清洗裝置高壓脈沖噴射清除異物 兼容晶圓、石英、玻璃、藍(lán)寶石、SiC等多種材質(zhì)。 結(jié)合高壓間歇噴射、二流體噴射、各種刷子、超聲波、化學(xué)溶液等,可應(yīng)對從粗加工到各種清洗工藝。拋光后清洗至精密清洗。

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    2025-05-06

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  • EJ-380IN-CH / EJW-400IFEngis臺式和固定式研磨設(shè)備超精密研磨加工

    Engis臺式和固定式研磨設(shè)備超精密研磨加工 EJ-380IN-CH / EJW-400IF 臺式和固定式研磨設(shè)備設(shè)計為的設(shè)備尺寸,用于構(gòu)建從實驗室規(guī)模到生產(chǎn)規(guī)模的高度靈活的拋光工藝。采用特別適合金剛石研磨的高剛性機(jī)身和開發(fā)的水冷主軸,使研磨機(jī)的表面溫度始終保持恒定,實現(xiàn)高旋轉(zhuǎn)精度、振動小。

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    2025-05-06

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  • MSK-SFM-3-IIMTI雙軸高能旋轉(zhuǎn)振動球磨機(jī)研磨成納米級

    MTI雙軸高能旋轉(zhuǎn)振動球磨機(jī)研磨成納米級 MSK-SFM-3-II MSK-SFM-3-II 是一款雙軸高能球磨機(jī),具有 3D 運動,可同時將兩種粉末研磨成納米級。 它具有由三維運動產(chǎn)生的更高沖擊力,例如旋轉(zhuǎn)、振動和振蕩,頻率高達(dá) 1000 RPM。 24VDC 電機(jī)內(nèi)置獨立可編程控制單元,可 在氬氣手套箱內(nèi)操作。

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    2025-05-06

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