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產(chǎn)品展示/ Product display

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  • MS-B200 / MS-B300日本MIKASA晶圓表面涂抹設(shè)備半導(dǎo)體用涂布機

    日本MIKASA晶圓表面涂抹設(shè)備半導(dǎo)體用涂布機 MS-B200 / MS-B300 產(chǎn)品采用AC伺服電機且無刷,因此在防止?jié)崈羰椅廴痉矫婢哂谐錾男阅?,并且減少電機的發(fā)熱以防止連續(xù)使用時的溫度升高。膜厚再現(xiàn)性也較低。

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    2025-05-07

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  • MS-B100 / MS-B150日本MIKASA小型高性能旋涂機涂布機潔凈室用

    日本MIKASA小型高性能旋涂機涂布機潔凈室用 MS-B100 / MS-B150 產(chǎn)品采用AC伺服電機且無刷,因此在防止?jié)崈羰椅廴痉矫婢哂谐錾男阅?,并且減少電機的發(fā)熱以防止連續(xù)使用時的溫度升高。膜厚再現(xiàn)性也較低。

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  • G1000日本Hisol等離子清洗機去除有機污染物等

    日本Hisol等離子清洗機去除有機污染物等 G1000 G1000是一種利用 氣體等離子體的蝕刻作用, 在低壓環(huán)境下對被清洗物體表面進行清洗的系統(tǒng)。通過根據(jù)用途選擇所使用的氣體, 不僅可以可靠地去除有機污染物,還可以可靠地去除無機污染物。

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    2025-05-07

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  • G20日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層

    日本Hisol離子濺射設(shè)備表面涂覆抗靜電涂層 G20 該臺式濺射設(shè)備非常適合在樣品表面涂覆抗靜電涂層,例如對非導(dǎo)電樣品進行 SEM 觀察時。

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    2025-05-07

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  • DH-209C-1-Rkelk凱爾克電子冷卻除濕器環(huán)境污染分析裝置

    kelk凱爾克電子冷卻除濕器環(huán)境污染分析裝置 DH-209C-1-R 電子冷卻除濕器對于去除環(huán)境污染氣體分析儀樣氣采樣部分或保持恒定量的水分至關(guān)重要。

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    2025-05-07

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  • RX-610-R凱爾克kelk化學(xué)溶液恒溫循環(huán)器控制器半導(dǎo)體

    凱爾克kelk化學(xué)溶液恒溫循環(huán)器控制器半導(dǎo)體 RX-610-R 濕法工藝的直接循環(huán)化學(xué)恒溫裝置,具有在線冷卻和加熱裝置,不會造成金屬離子洗脫和污染。

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    2025-05-07

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  • MBS-C-1000日本Junkosha脫氣模組高性能分析高純度流體

    日本Junkosha脫氣模組高性能分析高純度流體 MBS-C-1000$n$n在分析化學(xué)領(lǐng)域,對提高準確性的需求不斷增加。$n使用復(fù)雜的分析設(shè)備分析高純度流體需要使用高性能的脫氣模塊除去溶解的氣體。$n這是一種高性能且緊湊的脫氣模塊。

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    2025-05-09

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  • RAD-2510F/12SaAdwill-Global全自動多功能晶圓貼合研磨機

    Adwill-Global全自動多功能晶圓貼合研磨機 RAD-2510F/12Sa 適用于超薄晶圓 本多功能晶圓貼合機采用單機系統(tǒng),適用于超薄晶圓制造。背面研磨工藝完成后,晶圓的紫外線照射、校準、貼合到切割環(huán)、研磨用表面保護膠帶撕膜均可以由1臺設(shè)備完成。

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    2025-05-07

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